Glacadh le cineál N/P wafer SiC Epitaxiy saincheaptha
Is modh é próiseas ullmhúcháin wafer epitaxial chomhdhúile sileacain a úsáideann teicneolaíocht Taiscí Gaile Ceimiceach (CVD).Is iad seo a leanas na prionsabail theicniúla ábhartha agus céimeanna an phróisis ullmhúcháin:
Prionsabal teicniúil:
Taiscí Gaile Ceimiceach: Ag baint úsáide as an gás amhábhar sa chéim gáis, faoi choinníollacha imoibrithe sonracha, déantar é a dhianscaoileadh agus a thaisceadh ar an tsubstráit chun an scannán tanaí atá ag teastáil a fhoirmiú.
Imoibriú céim-gáis: Trí phirealú nó imoibriú scoilteadh, déantar gáis amhábhar éagsúla sa chéim gáis a athrú go ceimiceach sa seomra imoibrithe.
Céimeanna an phróisis ullmhúcháin:
Cóireáil foshraithe: Déantar an tsubstráit a ghlanadh agus a réamhchóireáil chun cáilíocht agus criostalacht an wafer epitaxial a chinntiú.
Dífhabhtú an tseomra imoibrithe: coigeartaigh teocht, brú agus ráta sreafa an tseomra imoibrithe agus paraiméadair eile chun cobhsaíocht agus rialú na gcoinníollacha imoibrithe a chinntiú.
Soláthar amhábhar: cuir na hamhábhair gháis atá ag teastáil isteach sa seomra imoibrithe, ag meascadh agus ag rialú an ráta sreafa de réir mar is gá.
Próiseas imoibrithe: Tríd an seomra imoibrithe a théamh, téann an stoc cothaithe gásach faoi imoibriú ceimiceach sa seomra chun an taisce inmhianaithe a tháirgeadh, ie scannán chomhdhúile sileacain.
Fuarú agus díluchtú: Ag deireadh an imoibrithe, déantar an teocht a ísliú de réir a chéile chun na taiscí sa seomra imoibrithe a fhuarú agus a dhaingniú.
Annealing agus iarphróiseáil wafer epitaxial: déantar an sliseog epitaxial taiscthe a annealú agus a iar-phróiseáil chun a airíonna leictreacha agus optúla a fheabhsú.
Féadfaidh céimeanna agus coinníollacha sonracha phróiseas ullmhúcháin sliseog epitaxial cairbíde sileacain a bheith éagsúil ag brath ar an trealamh agus na ceanglais shonracha.Níl an méid thuas ach sreabhadh próiseas ginearálta agus prionsabal, is gá an oibríocht shonrach a choigeartú agus a uasmhéadú de réir an staid iarbhír.
Léaráid Mhionsonraithe
![WechatIMG321](http://www.xkh-semitech.com/uploads/WechatIMG321.jpg)
![WechatIMG320](http://www.xkh-semitech.com/uploads/WechatIMG320.jpg)